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BG-406系列曝光机(光刻机)

BG-406系列曝光机(光刻机)主要用于中小规模集成电路、二极管、三极管、LED、电力电子器件、MEMS和其它半导体器件制造工艺中的对准及曝光。该系列曝光机由4英寸、6英寸单/双面曝光机组成,可实现单/双面对准、单面曝光、间隙曝光、全曝光。

对准工作台 

对准精度高,漂移小。精密楔形误差补偿机构实现三点找平,找平力小,延长掩模版使用寿命。
曝光系统 

采用柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球镜等精密光学件,具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。
分离视场显微镜

在X、Y方向通过操作杆可实现大范围扫描观察,可进行单视场或双视场切换,提高对准效率和套刻精度,同时兼容CCD成像液晶显示功能。
控制系统

电气控制采用工控机,人机界面操作菜单清晰,操作方便,汞灯电源易于触发,可靠性高。该设备的关键件采用进口或专业厂家制造,提高了设备的稳定性、可靠性,同时提供个性化服务。
 
联系方式:020-38699788

□对准工作台行程:
 X向:±5mm Y向:±5mm
 Z向:8mm θ向:±5°
□掩模尺寸:7″×7″
□基片尺寸:φ6″
□曝光方式:软接触、硬接触
 真空接触、间隙曝光、全曝光
□顶部对准显微镜
 总倍率:
 100X (50X可选)
 扫描范围:50mm×50mm
 调焦范围:8mm
 28-90mm(φ4″基片)
 75-150mm(φ4″-φ6″基片)
 对准精度:±0.5um
□底部对准显微镜
 总倍率:330X
 物镜分离距离:
 X向:50-140mm
 Y向:±12mm
 对准精度:±2um
□曝光分辨率:1um (真空接触)
□曝光间隙: 1-500um
□曝光面积: φ160 mm或φ108 mm
□曝光时间:0-999s 连续可调
□曝光不均匀性:
 ±5% (曝光面积:φ160 mm)
 ±3% (曝光面积:φ108mm)
□曝光系统及波长
 采用250W进口超高压汞灯,UV365
□所需设施:
 输入电压:~220v±22v(50Hz)
 整机功率:1KW
 室内光线:红光、黄光
 压缩空气: 0.5~0.7MPa
 氮气: 0.2~0.4MPa
 真空: -0.08~-0.14MPa
□体积及重量:
 外型尺寸: 1022mm×850mm×1330mm
 重量:350kg
BG-406系列曝光机(光刻机)
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