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BG-401A型曝光机(光刻机)

BG-401A曝光机(光刻机)主要用于中小规模集成电路、声表面波器件和其它各种半导体元器件制造工艺中的单面对准及曝光。最大兼容4英寸晶圆。

对准工作台:

对准精度高,漂移小。精密楔形误差补偿机构实现三点找平,找平力小,延长掩模版使用寿命。                        

曝光系统:

采用柱体蝇眼透镜和高能力集光的椭球反射镜等精密光学件,具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。
分离视场显微镜:

在X、Y方面进行大范围扫描观察,可进行单视场或双视场切换,提高对准效率和套准精度,同时兼容CCD成像显示功能。

电气控制:

采用可编程控制器(PLC)、LCD显示屏,操作方便,汞灯电源易于触发,可靠性高。该设备的关键件采用进口或专业厂家制造,气动元件采用SMC的产品,提高了设备的稳定性、可靠性,同时提供个性化服务。

联系方式:020-38699788

工作台行程:
X向:±5mm Y向:±5mm
Z向:3mm θ向:±12°
掩模尺寸:Max5″×5″
基片尺寸:Maxφ4″
基片与掩模微分离间隙:0-0.05mm
 
曝光分辨率:1.0um(真空接触)
曝光系统及波长:采用250W超高压
汞灯,UV365
曝光方式:真空接触、硬接触
曝光时间:0-999.9s连续可调
曝光面积:φ108mm
曝光不均匀性:±3%
 
分离视场显微镜
总倍率:100×(50×可选)
扫描范围:50mm×50mm
调焦范围:8mm
物镜分离距离:28-90mm
 
所需设施:
输入电压: ~220V±22 V(50Hz)
整机功率: 1KW
室内光线: 红色、黄色
压缩空气: 0.5~0.7MPa
氮气: 0.2~0.4MPa
真空: -0.08~-0.1MPa
 
体积及重量:
外形尺寸: 830mm×690mm×12700mm
重量:300kg
BG-401A型曝光机(光刻机)
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BG-401A型曝光机(光刻机)

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